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発刊:2025年10月
頁数:350頁
造本:B5、並製本
※サンプル版
https://ntsbook.tameshiyo.me/9784860439880
序論をブラウザ上でご覧いただけます。
※試読もできます。《電子試読》も承ります。
3D半導体実装技術[全頁・試読]
https://nts-book.stores.jp/items/68edb3a1dba43705442009dc
二次元から三次元へ!微細化の限界を突破!
半導体の性能を大きく向上させる3次元実装技術!!
◆最新の後工程プロセスや関連技術について徹底的に詳説!
◆図解等を交えながら、複雑な組立やテストプロセスの詳細を分かりやすく解説!
【監 修】
福島 誉史(東北大学)
【主な目次】
序論 三次元積層技術の展望と課題
第1章 設計技術
第2章 TSV(シリコン貫通電極)
第3章 接合技術
第4章 インターポーザー
第5章 アプリケーション
第6章 関連材料
第7章 信頼性
※試読のご案内
0円で、1冊丸ごと、2週間!
書籍をお手元にお送りして、内容を見て、ご購入を決められます。
※《電子試読》も承ります。
3D半導体実装技術[全頁・試読]
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◎PDF版電子書籍のご案内
全頁・冊子版と同内容を収録しています。
3D半導体実装技術[全頁・PDF版]
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